一種成形微透鏡列陣結構的方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN200710176012.X 申請日 -
公開（公告）號 CN101144978B 公開（公告）日 2010-12-08
申請公布號 CN101144978B 申請公布日 2010-12-08
分類號 G03F7/00(2006.01)I;G02B3/00(2006.01)I 分類 攝影術；電影術；利用了光波以外其他波的類似技術；電記錄術；全息攝影術〔4〕;
發(fā)明人 杜春雷;董小春;史立芳;鄧啟凌 申請（專利權）人 四川中科銘源光電科技有限公司
代理機構 北京科迪生專利代理有限責任公司 代理人 賈玉忠;盧紀
地址 610209 四川省雙流350信箱
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種成形微透鏡列陣結構的方法，其步驟為：(1)選擇基底，在其表面涂布抗蝕劑層；(2)將涂有抗蝕劑層的基底進行前烘處理；(3)對三維微透鏡列陣目標面形進行抽樣，設計掩模；(4)采用上述設計的掩模，進行曝光；(5)將曝光后的基底進行顯影和后烘；(6)通過反應離子刻蝕RIE工藝將面形傳遞到所述基底上。本發(fā)明可以成形各種面形以及各種口徑形狀的微透鏡陣列，且工藝簡單、效率高。