一種陰極電弧靶冷卻裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201420150138.5 申請日 -
公開（公告）號 CN203754799U 公開（公告）日 2014-08-06
申請公布號 CN203754799U 申請公布日 2014-08-06
分類號 C23C14/32 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 田燦鑫;韓濱;付德君 申請（專利權(quán)）人 武漢飛安磁光電科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 宜昌市三峽專利事務(wù)所 代理人 姜榮華
地址 443500 湖北省宜昌市長陽創(chuàng)新產(chǎn)業(yè)園
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種陰極電弧靶冷卻裝置包括靶座、靶材、及設(shè)在靶座內(nèi)部的多條冷卻水道，靶材嵌在靶座表面上；所述靶材與所述冷卻水道被銅板隔開，銅板使冷卻水道與靶材分屬不同的獨立空間，靶材與銅板相接觸；所述冷卻水道內(nèi)通過液體時，銅板受液體壓力向靶材凸出。本實用新型的優(yōu)點在于，利用銅片良好的傳導(dǎo)性導(dǎo)熱，同時利用銅片將靶材與冷卻水道隔開，其設(shè)備的冷卻效果好，又不影響真空設(shè)備及生產(chǎn)效率。