一種新型的高壓VDMOS器件
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202120636868.6 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN214542246U | 公開(公告)日 | 2021-10-29 |
申請公布號 | CN214542246U | 申請公布日 | 2021-10-29 |
分類號 | H01L29/78(2006.01)I;H01L29/16(2006.01)I;H01L29/10(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 陳利 | 申請(專利權)人 | 廈門芯一代集成電路有限公司 |
代理機構 | 廈門荔信航知專利代理事務所(特殊普通合伙) | 代理人 | 馬小玲 |
地址 | 361000福建省廈門市中國(福建)自由貿易試驗區(qū)廈門片區(qū)港中路1736號205-1單元 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實用新型公開了一種新型的高壓VDMOS器件,其包括:N型重摻雜襯底,N型輕摻雜緩沖區(qū),P型阱區(qū),N型重摻雜源極區(qū),P型重摻雜源極區(qū),高K絕緣層,柵極多晶硅區(qū),柵極電極,源極電極和漏極電極;漏極電極形成在N型重摻雜襯底下表面,N型重摻雜襯底上表面設有N型輕摻雜緩沖區(qū),N型輕摻雜緩沖區(qū)上表面設有兩個P型阱區(qū),在每個P型阱區(qū)上表面設有兩個N型重摻雜源極區(qū)和一個P型重摻雜源極區(qū),在兩個P型阱區(qū)和N型輕摻雜緩沖區(qū)上表面設有高K絕緣層,高K絕緣層的上表面設有柵極多晶硅區(qū),柵極多晶硅區(qū)的上表面設有柵極電極,兩個N型重摻雜源極區(qū)和一個P型重摻雜源極區(qū)的上表面設有源極電極。 |
