一種全自對(duì)準(zhǔn)的槽柵絕緣柵雙極晶體管及其制備方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202110955619.8 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN113690191A | 公開(公告)日 | 2021-11-23 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN113690191A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-11-23 |
分類號(hào) | H01L23/02(2006.01)I;H01L23/12(2006.01)I;H01L23/16(2006.01)I;H01L23/367(2006.01)I;H01L23/373(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I;H01L29/08(2006.01)I;H01L29/423(2006.01)I;H01L29/739(2006.01)I;H01L21/28(2006.01)I;H01L21/331(2006.01)I;B08B17/04(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 陳利;陳彬 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 廈門芯一代集成電路有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 東莞市卓易專利代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 魏昕 |
地址 | 361011福建省廈門市湖里區(qū)萬(wàn)翔國(guó)際商務(wù)中心1694號(hào)2#南樓705單元 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及晶體管技術(shù)領(lǐng)域,且公開了一種全自對(duì)準(zhǔn)的槽柵絕緣柵雙極晶體管及其制備方法,包括襯墊層,所述襯墊層的上表面設(shè)有P+層,所述P+層的上表面設(shè)有漏區(qū),所述漏區(qū)的上表面兩側(cè)開設(shè)有漏注入?yún)^(qū),所述漏注入?yún)^(qū)的頂部設(shè)有源區(qū)。該一種全自對(duì)準(zhǔn)的槽柵絕緣柵雙極晶體管及其制備方法,通過(guò)散熱層的多層設(shè)置,能夠充分吸收使用過(guò)過(guò)程中所產(chǎn)生的熱量,通過(guò)散熱片的設(shè)置,散熱片能夠有效的吸附第一銅層、陶瓷層和第二銅層所排出的熱量,晶體管工作時(shí),熱量能夠通過(guò)散熱片被吸附出,從而有效的降低其溫度,通過(guò)散熱導(dǎo)管和延伸片的設(shè)置,進(jìn)一步的提高了散熱效果,使得晶體管工作時(shí)發(fā)熱損耗降低,延長(zhǎng)了使用壽命。 |
