開放式微焦點(diǎn)X射線源及其控制方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202111006063.4 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN113793790A | 公開（公告）日 | 2021-12-14 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN113793790A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-12-14 |
| 分類號(hào) | H01J35/14（2006.01）I;H05G1/26（2006.01）I | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 仇小軍;孔文文;張偉;王劉成;侯頎 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 無錫日聯(lián)科技股份有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 常州佰業(yè)騰飛專利代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 姜曉鈺 |
| 地址 | 214112江蘇省無錫市新吳區(qū)漓江路11號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明提供一種開放式微焦點(diǎn)X射線源及其控制方法，所述開放式微焦點(diǎn)X射線源包括：開放式射線管，開放式射線管包括陰極系統(tǒng)、偏轉(zhuǎn)系統(tǒng)、聚焦系統(tǒng)；高壓電源系統(tǒng)，高壓電源系統(tǒng)用于為電子束提供發(fā)射電流I、加速高壓U和柵壓U；真空系統(tǒng)，真空系統(tǒng)用于進(jìn)行抽真空處理；控制系統(tǒng)，控制系統(tǒng)用于根據(jù)轟擊陽極靶的電子束的束斑尺寸控制高壓電源系統(tǒng)對(duì)發(fā)射電流I、加速高壓U、偏轉(zhuǎn)系統(tǒng)的偏轉(zhuǎn)線圈電流I、聚焦系統(tǒng)的聚焦線圈電流I進(jìn)行調(diào)節(jié)，以使束斑尺寸滿足預(yù)設(shè)要求。該開放式微焦點(diǎn)X射線源可以根據(jù)反饋參數(shù)變化對(duì)輸入?yún)?shù)進(jìn)行自動(dòng)調(diào)節(jié)，使開放式微焦點(diǎn)X射線源工作在最佳參數(shù)下，減少人為操作引起的錯(cuò)誤，使放射出的X光的質(zhì)量更高，穩(wěn)定性更好。 |
