硅片堿拋光用添加劑及其應(yīng)用
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202111279549.5 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN114032035A | 公開(公告)日 | 2022-02-11 |
申請公布號 | CN114032035A | 申請公布日 | 2022-02-11 |
分類號 | C09G1/04(2006.01)I;H01L21/306(2006.01)I | 分類 | 染料;涂料;拋光劑;天然樹脂;黏合劑;其他類目不包含的組合物;其他類目不包含的材料的應(yīng)用; |
發(fā)明人 | 裴銀強(qiáng);章圓圓;陳培良 | 申請(專利權(quán))人 | 常州時創(chuàng)能源股份有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | - | 代理人 | - |
地址 | 213300江蘇省常州市溧陽市溧城鎮(zhèn)吳潭渡路8號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種硅片堿拋光用添加劑,其各組分的含量為:0.5~2質(zhì)量份明膠、1~2質(zhì)量份丙烯酰胺、0.5~2質(zhì)量份季銨鹽、1~3質(zhì)量份對氨基水楊酸鈉、4~5質(zhì)量份硫氰酸銨、3~4質(zhì)量份烷基糖苷、0.1~0.3質(zhì)量份苯甲酸鈉、81.7~89.9質(zhì)量份水。在硅片堿拋光的拋光液中添加本發(fā)明的添加劑,能改變[111]/[100]面的反應(yīng)速率,抑制[100]面的反應(yīng)速度,能改變硅片背面平整度,能使堿拋光后硅片背面形成相對粗糙的小尺寸塔基狀結(jié)構(gòu),小幅度降低硅片背面反射率,這有利于背面漿料接觸,提升漿料拉力,還能使FF得以提升,提高電池片電性能。 |
