曝光裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201520657815.7 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN205080365U 公開(kāi)（公告）日 2016-03-09
申請(qǐng)公布號(hào) CN205080365U 申請(qǐng)公布日 2016-03-09
分類號(hào) G03F7/20(2006.01)I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 姜輝望;雷巖;楊海波 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 深圳華祥榮正電子有限公司
代理機(jī)構(gòu) 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 代理人 生啟
地址 518000 廣東省深圳市寶安區(qū)福永街道和平和裕工業(yè)區(qū)第3棟
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型涉及一種曝光裝置。一種曝光裝置，包括曝光臺(tái)，所述曝光臺(tái)包括曝光盤(pán)及導(dǎo)氣條，所述曝光盤(pán)包括位于所述曝光盤(pán)的中部的承載區(qū)，所述曝光盤(pán)開(kāi)設(shè)有的導(dǎo)氣槽，所述導(dǎo)氣槽位于承載區(qū)外側(cè)；所述導(dǎo)氣條形成有抽氣槽，所述導(dǎo)氣條固設(shè)于所述承載區(qū)且自所述承載區(qū)的邊緣向所述承載區(qū)的中部延伸，所述抽氣槽與所述導(dǎo)氣槽連通。上述曝光裝置抽真空效果較好。