一種超短焦抗光結(jié)構(gòu)的制作方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201811531764.8 申請日 -
公開（公告）號(hào) CN109696794A 公開（公告）日 2019-04-30
申請公布號(hào) CN109696794A 申請公布日 2019-04-30
分類號(hào) G03B21/60（2014.01）I; G03F7/20（2006.01）I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 廖巧生; 黃少云 申請（專利權(quán)）人 湖南省諦源光學(xué)科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京中索知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 煙臺(tái)市諦源光科有限公司
地址 264000 山東省煙臺(tái)市高新區(qū)經(jīng)三路36號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及短焦投影技術(shù)領(lǐng)域，提供了一種超短焦抗光結(jié)構(gòu)的制作方法，包括在基板上模壓出的光學(xué)微結(jié)構(gòu)的表面上均勻沉積金屬材料形成反射層；在反射層上均勻覆蓋光阻材料；選定區(qū)域進(jìn)行曝光；顯影去除被曝光的光阻材料，露出所述區(qū)域內(nèi)的反射層；刻蝕掉露出的反射層上的金屬材料，形成抗光側(cè)；去除剩余的光阻材料，露出反射層，得所述抗光結(jié)構(gòu)。借此，本發(fā)明通過在光學(xué)微結(jié)構(gòu)上均勻沉積金屬材料，再在金屬材料上覆蓋光阻材料；之后對選定區(qū)域內(nèi)的光阻材料進(jìn)行曝光、顯影，再去除掉露出的金屬材料，形成抗光側(cè)；最后去除剩余的光阻材料形成反射層。獲得了特定分布的反射層結(jié)構(gòu)，避免了現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，得到了高品質(zhì)的抗光結(jié)構(gòu)。