蒸鍍坩堝及蒸鍍裝置
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202023343505.8 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN214881793U | 公開(公告)日 | 2021-11-26 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN214881793U | 申請(qǐng)公布日 | 2021-11-26 |
分類號(hào) | C23C14/24(2006.01)I;C23C14/12(2006.01)I;C23C14/04(2006.01)I;H01L51/56(2006.01)I | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 林文晶;軒景泉;王輝;馬曉宇 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 上海升翕光電科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京匯思誠(chéng)業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 肖麗 |
地址 | 200540上海市金山區(qū)夏寧路666弄62號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本申請(qǐng)涉及蒸鍍?cè)O(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,提供了一種蒸鍍坩堝及蒸鍍裝置,前者包括坩堝本體和頸筒;坩堝本體為頂部開口的桶狀結(jié)構(gòu);頸筒的一端與坩堝本體的頂部開口對(duì)接,另一端作為供蒸鍍材料逸散的出口;其中,沿遠(yuǎn)離坩堝本體的方向,頸筒的口徑先減小后增大。后者包括前者。由于坩堝本體的頂部開口處設(shè)置有頸筒,且沿遠(yuǎn)離坩堝本體1的方向頸筒的口徑設(shè)置成先減小后增大,這樣沙漏狀的頸筒可以對(duì)坩堝本體的噴濺出來(lái)熱融化狀態(tài)下的蒸鍍材料進(jìn)行較好的阻擋,從而解決了現(xiàn)有的蒸鍍坩堝在使用時(shí)存在的蒸鍍材料易噴濺到基材、影響蒸鍍品質(zhì)的問題。 |
