蒸發(fā)源

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202023171146.2 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN214881785U 公開（公告）日 2021-11-26
申請(qǐng)公布號(hào) CN214881785U 申請(qǐng)公布日 2021-11-26
分類號(hào) C23C14/04（2006.01）I;C23C14/24（2006.01）I;C23C14/12（2006.01）I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 林文晶;彭虎 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 上海升翕光電科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京匯思誠(chéng)業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 沈逸弢
地址 200540上海市金山區(qū)夏寧路666弄62號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N蒸發(fā)源，對(duì)安裝于容器上的噴嘴部進(jìn)行多種布置，使得蒸鍍到基材上的蒸鍍材料厚度均勻，保證了蒸鍍產(chǎn)品的質(zhì)量。