蒸鍍坩堝及蒸鍍裝置
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202023343090.4 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN215517604U | 公開(公告)日 | 2022-01-14 |
申請公布號 | CN215517604U | 申請公布日 | 2022-01-14 |
分類號 | C23C14/24(2006.01)I;C23C14/12(2006.01)I;C23C14/04(2006.01)I;H01L51/56(2006.01)I | 分類 | 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 林文晶;軒景泉;錢海濤;劉萍;呂海超 | 申請(專利權(quán))人 | 上海升翕光電科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京匯思誠業(yè)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 肖麗 |
地址 | 200540上海市金山區(qū)夏寧路666弄62號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本申請涉及蒸鍍設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,提供了一種蒸鍍坩堝及蒸鍍裝置,前者包括坩堝本體和加熱裝置;坩堝本體的頂部設(shè)置有開口;加熱裝置設(shè)置于坩堝本體的外周壁,具有第一加熱部和第二加熱部;其中,第一加熱部與第二加熱部依次交錯(cuò)串聯(lián)設(shè)置多個(gè);第一加熱部與坩堝本體的整體外周壁對應(yīng)設(shè)置;第二加熱部與坩堝本體的靠近開口的局部外周壁對應(yīng)設(shè)置。后者包括前者。第一加熱部對坩堝本體的整體外周壁進(jìn)行加熱,第二加熱部對坩堝本體的靠近開口的局部外周壁進(jìn)行額外的加熱,以確保坩堝本體的開口周壁處的溫度高于坩堝本體其他部位的溫度,而且一個(gè)供電系統(tǒng)即可對多個(gè)第一加熱部及多個(gè)第二加熱部同時(shí)供電加熱,具有能夠簡化加熱系統(tǒng)的優(yōu)點(diǎn)。 |
