蒸鍍坩堝及蒸鍍裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202120052787.1 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN214881794U 公開（公告）日 2021-11-26
申請(qǐng)公布號(hào) CN214881794U 申請(qǐng)公布日 2021-11-26
分類號(hào) C23C14/24（2006.01）I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 林文晶;軒景泉;趙軍;崔建勇 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 上海升翕光電科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京匯思誠(chéng)業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 周放
地址 200540上海市金山區(qū)夏寧路666弄62號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請(qǐng)涉及蒸鍍?cè)O(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，提供了一種蒸鍍坩堝及蒸鍍裝置，前者包括坩堝本體和加熱裝置；坩堝本體具有用于盛裝蒸鍍材料的容腔，且容腔的頂部開設(shè)有開口；加熱裝置設(shè)置于坩堝本體外部；其中，開口所在的平面與水平方向傾斜設(shè)置。該蒸鍍坩堝將容腔中的蒸鍍材料加熱到熔化揮發(fā)時(shí)，蒸鍍材料便可從開口逸散出去，而且由于開口朝向基材的中部?jī)A斜設(shè)置，這樣蒸鍍材料的蒸鍍角也會(huì)相應(yīng)的朝向基材的中部?jī)A斜，從而使蒸鍍材料能夠更充分地蒸鍍到基材的邊角部、能夠減少蒸鍍材料浪費(fèi)、降低蒸鍍成本。