蒸鍍坩堝及蒸鍍裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202120056058.3 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN214881795U 公開（公告）日 2021-11-26
申請(qǐng)公布號(hào) CN214881795U 申請(qǐng)公布日 2021-11-26
分類號(hào) C23C14/24（2006.01）I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 林文晶;軒景泉;趙軍;崔建勇 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 上海升翕光電科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京匯思誠(chéng)業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 周放
地址 200540上海市金山區(qū)夏寧路666弄62號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請(qǐng)涉及蒸鍍?cè)O(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，提供了一種蒸鍍坩堝及蒸鍍裝置，前者包括坩堝本體和加熱裝置；坩堝本體具有多個(gè)用于盛裝蒸鍍材料的容腔，且每個(gè)容腔的頂部開設(shè)有開口；加熱裝置設(shè)置于坩堝本體外部，能夠分別加熱各個(gè)容腔；其中，容腔共用一個(gè)開口。與現(xiàn)有技術(shù)中點(diǎn)蒸鍍工藝中的圓桶裝蒸鍍坩堝相比，本申請(qǐng)實(shí)施提供的蒸鍍坩堝能夠使不同種類的蒸鍍材料以相同受熱消耗速率來(lái)對(duì)基材進(jìn)行同時(shí)蒸鍍，提高了不同蒸鍍材料同時(shí)蒸鍍時(shí)的蒸鍍品質(zhì)。