蒸發(fā)源

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202023171149.6 申請日 -
公開（公告）號 CN214881791U 公開（公告）日 2021-11-26
申請公布號 CN214881791U 申請公布日 2021-11-26
分類號 C23C14/24（2006.01）I;C23C14/12（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 林文晶 申請（專利權）人 上海升翕光電科技有限公司
代理機構 北京匯思誠業(yè)知識產權代理有限公司 代理人 沈逸弢
地址 200540上海市金山區(qū)夏寧路666弄62號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請?zhí)峁┮环N蒸發(fā)源，能夠使得在噴嘴處的有機材料均勻分布，提高噴嘴處的有機材料均勻噴出，提高OLED基材上蒸鍍材料的厚度均勻。