蒸發(fā)源
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202023171149.6 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN214881791U | 公開(公告)日 | 2021-11-26 |
申請公布號 | CN214881791U | 申請公布日 | 2021-11-26 |
分類號 | C23C14/24(2006.01)I;C23C14/12(2006.01)I | 分類 | 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學處理;金屬材料的擴散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 林文晶 | 申請(專利權)人 | 上海升翕光電科技有限公司 |
代理機構 | 北京匯思誠業(yè)知識產權代理有限公司 | 代理人 | 沈逸弢 |
地址 | 200540上海市金山區(qū)夏寧路666弄62號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本申請?zhí)峁┮环N蒸發(fā)源,能夠使得在噴嘴處的有機材料均勻分布,提高噴嘴處的有機材料均勻噴出,提高OLED基材上蒸鍍材料的厚度均勻。 |
