蒸鍍坩堝及蒸鍍裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202022844931.3 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN214881789U 公開(kāi)（公告）日 2021-11-26
申請(qǐng)公布號(hào) CN214881789U 申請(qǐng)公布日 2021-11-26
分類號(hào) C23C14/24（2006.01）I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 林文晶;軒景泉;趙軍;錢(qián)海濤;畢巖;劉萍 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 上海升翕光電科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京匯思誠(chéng)業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 周放
地址 200540上海市金山區(qū)夏寧路666弄62號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請(qǐng)涉及蒸鍍?cè)O(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，提供了一種蒸鍍坩堝及蒸鍍裝置，前者包括坩堝本體和加熱裝置；坩堝本體具有用于盛裝蒸鍍材料的容腔；加熱裝置設(shè)置于坩堝本體的外底壁；其中，坩堝本體的內(nèi)底壁設(shè)有多個(gè)第一凹陷部，且相鄰的兩個(gè)第一凹陷部之間圍成分隔部；坩堝本體與分隔部對(duì)應(yīng)的外底壁處還設(shè)置有朝向分隔部凹陷的第二凹陷部；加熱裝置至少部分的插裝于第二凹陷部。后者包括前者。該蒸鍍坩堝的加熱裝置產(chǎn)生的熱量，既可以通過(guò)坩堝本體的外底壁進(jìn)行傳導(dǎo)，又可以通過(guò)坩堝本體的分隔部進(jìn)行傳導(dǎo)，從而解決了現(xiàn)有技術(shù)中蒸鍍坩堝的加熱速度慢、加熱效率低的問(wèn)題。