蒸發(fā)源

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202023171221.5 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN214881792U 公開(kāi)（公告）日 2021-11-26
申請(qǐng)公布號(hào) CN214881792U 申請(qǐng)公布日 2021-11-26
分類(lèi)號(hào) C23C14/24（2006.01）I;C23C14/12（2006.01）I 分類(lèi) 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 林文晶 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 上海升翕光電科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京匯思誠(chéng)業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 沈逸弢
地址 200540上海市金山區(qū)夏寧路666弄62號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N蒸發(fā)源，能夠提高了蒸鍍材料的蒸發(fā)面積，同時(shí)有效的避免了蒸鍍過(guò)程中孤島效應(yīng)的出現(xiàn)，便于拆卸和維修，避免對(duì)部件進(jìn)行整體更換，降低生產(chǎn)過(guò)程中的維修成本。