一種晶圓位置檢測(cè)裝置仿真測(cè)試系統(tǒng)

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202010903005.0 申請(qǐng)日 -
公開(公告)號(hào) CN111983432B 公開(公告)日 2021-04-20
申請(qǐng)公布號(hào) CN111983432B 申請(qǐng)公布日 2021-04-20
分類號(hào) G01R31/28(2006.01)I 分類 測(cè)量;測(cè)試;
發(fā)明人 戴金方 申請(qǐng)(專利權(quán))人 無錫卓??萍脊煞萦邢薰?/a>
代理機(jī)構(gòu) 無錫華源專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) 代理人 過顧佳;聶啟新
地址 214000江蘇省無錫市天山路6-2407
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種晶圓位置檢測(cè)裝置仿真測(cè)試系統(tǒng),涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域,該系統(tǒng)利用測(cè)試方波發(fā)生器產(chǎn)生測(cè)試矢量發(fā)送給晶圓位置檢測(cè)裝置,可以自動(dòng)化的對(duì)晶圓位置檢測(cè)裝置進(jìn)行仿真測(cè)試而無需實(shí)測(cè),易于實(shí)現(xiàn)。且通過測(cè)試矢量中時(shí)間同步信號(hào)的波形形態(tài)變化、傳感器仿真信號(hào)的波形形態(tài)變化以及兩者之間的相對(duì)相位調(diào)整,可以模擬下不同檢測(cè)場(chǎng)景中不同晶圓放置狀態(tài),同時(shí)通過在波形中加入雜波并進(jìn)行細(xì)分微調(diào),可以模擬各類干擾影響因素,覆蓋的測(cè)試情形更全面,可以有效測(cè)試晶圓位置檢測(cè)裝置的準(zhǔn)確性、完備性和魯棒性。??