校準(zhǔn)OM和SEM坐標(biāo)關(guān)系的方法和裝置、設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202110607323.7 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN113379692A 公開(kāi)（公告）日 2021-09-10
申請(qǐng)公布號(hào) CN113379692A 申請(qǐng)公布日 2021-09-10
分類(lèi)號(hào) G06T7/00（2017.01）I;G06T7/62（2017.01）I;G06T7/73（2017.01）I;G06K9/62（2006.01）I 分類(lèi) 計(jì)算；推算；計(jì)數(shù);
發(fā)明人 甘遠(yuǎn);薛磊;韓春營(yíng);俞宗強(qiáng);蔣俊海 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 中科晶源微電子技術(shù)（北京）有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京市鼎立東審知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 陳佳妹;朱慧娟
地址 102600北京市大興區(qū)北京經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)經(jīng)海四路156號(hào)院12號(hào)樓5層
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請(qǐng)公開(kāi)了一種校準(zhǔn)OM和SEM坐標(biāo)關(guān)系的方法，該校準(zhǔn)OM和SEM坐標(biāo)關(guān)系的方法包括讀取由同一標(biāo)準(zhǔn)片中選取的同一標(biāo)記點(diǎn)在工作臺(tái)上的位置和標(biāo)記圖案，在OM模式下獲取OM圖像，根據(jù)OM標(biāo)記圖案和OM圖像得到第一標(biāo)記點(diǎn)偏移量，在SEM模式下獲取SEM圖像，SEM圖像為控制工作臺(tái)移動(dòng)至第二位置處后拍照得到的圖像，根據(jù)SEM標(biāo)記圖案和SEM圖像得到第二標(biāo)記點(diǎn)偏移量，通過(guò)第一標(biāo)記點(diǎn)偏移量和第二標(biāo)記點(diǎn)偏移量得到OM和SEM坐標(biāo)關(guān)系。這樣針對(duì)半導(dǎo)體制造過(guò)程中電子束檢測(cè)與特征尺寸測(cè)量之前的校準(zhǔn)過(guò)程進(jìn)行了自動(dòng)化處理，該方法不僅排除了人為因素以及環(huán)境因素（溫度等）的影響，還提高了檢測(cè)效率。