用于半導(dǎo)體器件的電子束檢測設(shè)備、和電子束檢測組件

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201911179973.5 申請日 -
公開（公告）號 CN110988003B 公開（公告）日 2021-08-13
申請公布號 CN110988003B 申請公布日 2021-08-13
分類號 G01N23/2251 分類 測量；測試;
發(fā)明人 蔣磊;趙焱 申請（專利權(quán)）人 中科晶源微電子技術(shù)（北京）有限公司
代理機(jī)構(gòu) 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 代理人 王益
地址 100176 北京市大興區(qū)北京經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)經(jīng)海四路156號院12號樓5層
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 披露了用于半導(dǎo)體器件的電子束檢測設(shè)備和電子束檢測組件。電子束檢測設(shè)備包括：工作臺，以頂面承載所述半導(dǎo)體器件且能夠沿正交的兩方向平移；瞄準(zhǔn)裝置，采集所述半導(dǎo)體器件的圖像來確定所述半導(dǎo)體器件在所述電子束檢測設(shè)備的坐標(biāo)系中的位置，且具備第一視場和第一光軸；電子束檢測裝置，向所述半導(dǎo)體器件投射電子束和檢測從所述半導(dǎo)體器件出射的電子束，且具備第二視場和與所述第一光軸不疊合的第二光軸；和反射裝置，將所述半導(dǎo)體器件的待測區(qū)域反射成像到所述瞄準(zhǔn)裝置內(nèi)；所述第一視場利用所述反射裝置的反射而投影到所述頂面上的第一可視區(qū)域，所述第二視場沿著所述電子束的光路投影到所述頂面上的第二可視區(qū)域。