銅基材的化學(xué)錫鍍液中四價(jià)錫的去除工藝

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201610385054.3 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN106011810A 公開(kāi)（公告）日 2016-10-12
申請(qǐng)公布號(hào) CN106011810A 申請(qǐng)公布日 2016-10-12
分類(lèi)號(hào) C23C18/52(2006.01)I 分類(lèi) 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 姚玉;王江鋒;何志剛;王輝;汪文珍;沈文寶 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 東莞市智源電子科技有限公司
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法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)了一種銅基材的化學(xué)錫鍍液中四價(jià)錫的去除工藝，該工藝包括以下步驟：在化學(xué)鍍錫槽邊連接一個(gè)樹(shù)脂吸附塔；化學(xué)鍍錫溶液從化學(xué)鍍錫槽中抽到樹(shù)脂吸附塔內(nèi)，且將陽(yáng)離子樹(shù)脂加入到樹(shù)脂吸附塔內(nèi)；陽(yáng)離子樹(shù)脂在一定溫度下將化學(xué)鍍錫溶液中的四價(jià)錫吸附；吸附后得到的凈化鍍液再流回化學(xué)鍍錫槽中，此時(shí)凈化鍍液中四價(jià)錫的濃度可以下降的范圍在5?30g/L之間。本發(fā)明在樹(shù)脂吸附塔內(nèi)采用陽(yáng)離子樹(shù)脂吸附的方式來(lái)去除四價(jià)錫，不需要頻繁的換槽、不會(huì)有二價(jià)錫的損失，其效果明顯，而且成本低廉；若是四價(jià)錫的濃度上限30g/L，可以連續(xù)循環(huán)吸附，直至四價(jià)錫降低到要求范圍后，關(guān)閉循環(huán)吸附，如此以來(lái)可以降低鍍液中的四價(jià)錫，而不會(huì)出現(xiàn)浪費(fèi)二價(jià)錫的現(xiàn)象。