銅基材的化學(xué)錫鍍液中四價錫的去除工藝

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201610385054.3 申請日 -
公開（公告）號 CN106011810B 公開（公告）日 2019-01-11
申請公布號 CN106011810B 申請公布日 2019-01-11
分類號 C23C18/52 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 姚玉;王江鋒;何志剛;王輝;汪文珍;沈文寶 申請（專利權(quán)）人 東莞市智源電子科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 523750 廣東省東莞市黃江鎮(zhèn)長龍社區(qū)金竹園街3號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種銅基材的化學(xué)錫鍍液中四價錫的去除工藝，該工藝包括以下步驟：在化學(xué)鍍錫槽邊連接一個樹脂吸附塔；化學(xué)鍍錫溶液從化學(xué)鍍錫槽中抽到樹脂吸附塔內(nèi)，且將陽離子樹脂加入到樹脂吸附塔內(nèi)；陽離子樹脂在一定溫度下將化學(xué)鍍錫溶液中的四價錫吸附；吸附后得到的凈化鍍液再流回化學(xué)鍍錫槽中，此時凈化鍍液中四價錫的濃度可以下降的范圍在5?30g/L之間。本發(fā)明在樹脂吸附塔內(nèi)采用陽離子樹脂吸附的方式來去除四價錫，不需要頻繁的換槽、不會有二價錫的損失，其效果明顯，而且成本低廉；若是四價錫的濃度上限30g/L，可以連續(xù)循環(huán)吸附，直至四價錫降低到要求范圍后，關(guān)閉循環(huán)吸附，如此以來可以降低鍍液中的四價錫，而不會出現(xiàn)浪費(fèi)二價錫的現(xiàn)象。