晶圓電鍍鎳金產(chǎn)品
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201320339799.8 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN203288585U | 公開(公告)日 | 2013-11-13 |
申請公布號 | CN203288585U | 申請公布日 | 2013-11-13 |
分類號 | H01L23/538(2006.01)I;C25D7/12(2006.01)I;C25D5/12(2006.01)I;C25D5/02(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 何志剛;王江鋒;陳建平;汪文珍;楊明 | 申請(專利權(quán))人 | 東莞市智源電子科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人 | 深圳市創(chuàng)智成功科技有限公司;東莞市智源電子科技有限公司 |
地址 | 518103 廣東省深圳市寶安區(qū)福永街道塘尾富源工業(yè)區(qū)一區(qū)B2幢(1樓C、2樓北) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實(shí)用新型公開了一種適用于RDL和TSV制程的晶圓電鍍鎳金產(chǎn)品,包括基材,所述基材表面設(shè)有導(dǎo)電區(qū)和非導(dǎo)電區(qū),所述導(dǎo)電區(qū)的基材表面上依次設(shè)有種子層、電鍍銅層、電鍍鎳層、電鍍金層。本實(shí)用新型的晶圓電鍍鎳金產(chǎn)品不存在傳統(tǒng)化學(xué)鍍鎳金的滲鍍和鎳腐蝕狀況,產(chǎn)品的可靠性較高。 |
