一種石墨散熱片噴涂設(shè)備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201920996370.3 申請日 -
公開（公告）號 CN210449637U 公開（公告）日 2020-05-05
申請公布號 CN210449637U 申請公布日 2020-05-05
分類號 B05B13/04;B05B13/02;B05B16/00;B05B14/00;B05B15/62 分類 一般噴射或霧化；對表面涂覆液體或其他流體的一般方法〔2〕;
發(fā)明人 劉寶兵;顧德新 申請（專利權(quán)）人 奇華光電（昆山）股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 南京泰普專利代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 奇華光電（昆山）股份有限公司
地址 215300 江蘇省蘇州市昆山市周市鎮(zhèn)長興東路298號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種石墨散熱片噴涂設(shè)備，屬于石墨散熱片噴涂技術(shù)領(lǐng)域。其中，石墨散熱片噴涂設(shè)備包括：機(jī)架、設(shè)于機(jī)架上的工作臺、設(shè)于工作臺上方的直線運(yùn)動機(jī)構(gòu)、設(shè)于直線運(yùn)動機(jī)構(gòu)下方的噴涂機(jī)構(gòu)以及設(shè)置于機(jī)架外圍的用于保護(hù)噴涂環(huán)境的保護(hù)罩，通過設(shè)置隔振機(jī)構(gòu)可以避免將機(jī)架和直線運(yùn)動機(jī)構(gòu)的振動傳導(dǎo)到噴嘴上，使噴嘴噴出的石墨烯更加均勻。本實(shí)用新型提出的石墨散熱片噴涂設(shè)備克服了傳統(tǒng)石墨散熱片噴涂裝置在工作過程中機(jī)構(gòu)振動對石墨噴涂均勻性的影響，使沉積的石墨烯薄膜更加均勻，提升了石墨散熱片的工藝質(zhì)量。