一種應(yīng)用晶體增大裝置的結(jié)晶系統(tǒng)
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202121920530.X | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN215939073U | 公開（公告）日 | 2022-03-04 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN215939073U | 申請(qǐng)公布日 | 2022-03-04 |
| 分類號(hào) | B01D9/02（2006.01）I;C01D5/00（2006.01）I;C01D5/16（2006.01）I | 分類 | 一般的物理或化學(xué)的方法或裝置; |
| 發(fā)明人 | 劉進(jìn);李宏秀;秦樹篷;崔德勝;張研;吳溪;龐曉辰;王棟韶;郭銀秋;梁霄;曹進(jìn)豐;任楠楠;李浩;解錚;劉艷芳;熬思宇;豐曉亮;楊東昱;王凡嵩;岳鵬飛;楊凱;呂奕凝;聶飛;劉夏 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 華電水務(wù)工程有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京聯(lián)創(chuàng)佳為專利事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 劉雪嬌 |
| 地址 | 100070北京市豐臺(tái)區(qū)科學(xué)城海鷹路9號(hào)2號(hào)樓313室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型公開了一種應(yīng)用晶體增大裝置的結(jié)晶系統(tǒng)，包括結(jié)晶器本體、除霧器、晶體增稠裝置、第一進(jìn)料裝置、第二進(jìn)料裝置、母液排放管和淘析器，所述除霧器設(shè)置于結(jié)晶器本體的頂端，所述晶體增稠裝置設(shè)置于結(jié)晶器本體的底端，淘析器設(shè)置于晶體增稠裝置的下方所述第一進(jìn)料裝置與結(jié)晶器本體連接，所述第二進(jìn)料裝置與晶體增稠裝置連接，所述晶體增稠裝置與母液排放管連接。本實(shí)用新型能夠使晶體粒徑達(dá)到250um～400um，有效提高產(chǎn)品純度減少結(jié)晶鹽比表面積。 |
