一種鎢和氮化鈦金屬薄膜的蝕刻液及其使用方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201910544828.6 申請日 -
公開（公告）號 CN110195229B 公開（公告）日 2021-05-14
申請公布號 CN110195229B 申請公布日 2021-05-14
分類號 C23F1/26;C09K13/08 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 李少平;張庭;賀兆波;王書萍;馮凱;尹印 申請（專利權(quán)）人 湖北興福電子材料有限公司
代理機構(gòu) 宜昌市三峽專利事務(wù)所 代理人 成鋼
地址 443007 湖北省宜昌市猇亭區(qū)猇亭大道66-3號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種鎢和氮化鈦金屬薄膜的蝕刻液及使用方法，主要成分包括磷酸、硝酸、醋酸、氟化合物、多元羧酸以及超純水。首先，利用硝酸將鎢和氮化鈦氧化；醋酸是為了抑制硝酸的電離，提高體系的氧化能力（硝酸）；磷酸作為緩沖溶液，起到提供氫離子的作用，在蝕刻過程中保持蝕刻速率的穩(wěn)定；氟化合物和多元羧酸胺作為鈦離子和鎢離子的絡(luò)合劑，平衡氮化鈦和鎢的蝕刻速率。本發(fā)明的蝕刻液能同時蝕刻鎢和氮化鈦，并使鎢和氮化鈦的蝕刻速率差≤0.01nm/min，基本保持一致。