一種去磨紋的硅蝕刻液

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202011139447.9 申請日 -
公開（公告）號 CN112251233B 公開（公告）日 2021-09-07
申請公布號 CN112251233B 申請公布日 2021-09-07
分類號 C09K13/06;C09K13/08;C23F1/24 分類 染料；涂料；拋光劑；天然樹脂；黏合劑；其他類目不包含的組合物；其他類目不包含的材料的應(yīng)用;
發(fā)明人 萬楊陽;郝曉斌;賀兆波;尹印;張庭;馮凱;王書萍;張演哲;鐘昌東;李鑫;蔡步林 申請（專利權(quán)）人 湖北興福電子材料有限公司
代理機構(gòu) 宜昌市三峽專利事務(wù)所 代理人 成鋼
地址 443007 湖北省宜昌市猇亭區(qū)猇亭大道66-3號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種去磨紋的硅蝕刻液。該蝕刻液由硝酸、硝酸羥胺、氟磺酸、二氟化氫銨、二氟化氙、硫酸、增稠劑和去離子水組成。其中增稠劑可以是聚丙烯酰胺、己醇、辛醇、聚乙二醇、聚乙烯吡咯烷酮等中的任意一種。本發(fā)明中硝酸羥胺與氟磺酸反應(yīng)生成氫氟酸，二氟化氙在酸性環(huán)境下緩慢分解生成氫氟酸，均增加蝕刻液組合物中的氫氟酸的濃度，能夠抑制上述蝕刻液組合物的經(jīng)時變化，維持穩(wěn)定的蝕刻速率。本發(fā)明的去磨紋蝕刻液能夠直接用于磨片的背面打毛工藝，蝕刻掉較深的機械磨紋，省略了拋光去磨紋工序，節(jié)約了成本，提高生產(chǎn)效率，同時也能維持穩(wěn)定的蝕刻壽命。