一種高溫氣冷堆吸收球表面涂層的制備方法及設(shè)備

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202111328296.6 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)(公告)號(hào) CN114220561A 公開(kāi)(公告)日 2022-03-22
申請(qǐng)公布號(hào) CN114220561A 申請(qǐng)公布日 2022-03-22
分類號(hào) G21C7/10(2006.01)I;G21C21/18(2006.01)I;C23C16/32(2006.01)I;C23C16/442(2006.01)I 分類 核物理;核工程;
發(fā)明人 羅寶軍;汪景新;周勤;孫惠敏;張振魯;周振德 申請(qǐng)(專利權(quán))人 華能山東石島灣核電有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京清亦華知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 代理人 趙迪
地址 200126上海市中國(guó)(上海)自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)世博館路200號(hào)A座5層A508房間
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種高溫氣冷堆吸收球表面涂層的制備方法及設(shè)備,本發(fā)明方法包括如下步驟:1)、將吸收球顆粒通過(guò)加料口加入流化床反應(yīng)器中;2)、將三氯甲基硅烷置于蒸發(fā)器中,以氫氣為載氣將三氯甲基硅烷送入流化床反應(yīng)器,維持溫度1500?1550℃,氣相沉積1.5?2.5h,三氯甲基硅烷在流化床反應(yīng)器中裂解,后形成碳化硅,氣相沉積于吸收球顆粒上,形成致密的碳化硅保護(hù)層。本發(fā)明通過(guò)在吸收球碳化硼顆粒表面形成一層堅(jiān)固耐磨、致密的碳化硅涂層,形成光滑的小球,隔絕吸收球在運(yùn)行過(guò)程中產(chǎn)生粉塵,確保反應(yīng)堆的控制不受碳化硼粉塵的影響。