一種可局部測量的顯微成像膜厚測量裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202010275953.4 申請日 -
公開（公告）號 CN111366087B 公開（公告）日 2022-03-08
申請公布號 CN111366087B 申請公布日 2022-03-08
分類號 G01B11/06（2006.01）I 分類 測量；測試;
發(fā)明人 張傳維;王鑫輝;李偉奇;郭春付;楊康 申請（專利權(quán)）人 武漢頤光科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 武漢藍(lán)寶石專利代理事務(wù)所（特殊普通合伙） 代理人 謝洋
地址 430000湖北省武漢市東湖新技術(shù)開發(fā)區(qū)湯遜湖北路33號華工科技園·創(chuàng)新基地辦公研發(fā)樓18棟4層5、6、7室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及光學(xué)薄膜測量技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種可局部測量的顯微成像膜厚測量裝置，包括：光路組件、載物組件及機(jī)架組件，載物組件設(shè)置在機(jī)架組件上；光路組件連接在機(jī)架組件上；光路組件用于對載物組件上的薄膜進(jìn)行光學(xué)測量。本發(fā)明提供的可局部測量的顯微成像膜厚測量裝置，光源可同時作為測量光源和照明光源，不僅能發(fā)出測量光束，同時能提供對測量區(qū)域標(biāo)記的光束，不需要另外設(shè)置照明光源，可避免對測量光源帶來雜散光，提高了測量結(jié)果的準(zhǔn)確性。