一種薄膜厚度提取方法及系統(tǒng)
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202111479093.7 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN114383516A | 公開(公告)日 | 2022-04-22 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN114383516A | 申請(qǐng)公布日 | 2022-04-22 |
分類號(hào) | G01B11/06(2006.01)I | 分類 | 測(cè)量;測(cè)試; |
發(fā)明人 | 石雅婷;郭春付;李江輝;李偉奇;張傳維 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 武漢頤光科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 武漢藍(lán)寶石專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) | 代理人 | 范三霞 |
地址 | 430000湖北省武漢市東湖新技術(shù)開發(fā)區(qū)金融港四路10號(hào)6號(hào)樓(自貿(mào)區(qū)武漢片區(qū)) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供一種薄膜厚度提取方法及系統(tǒng),該方法包括:獲取待測(cè)樣件的測(cè)量光譜;確定樣件膜系結(jié)構(gòu)和每一層膜的光學(xué)常數(shù);通過參數(shù)分離對(duì)正向模型進(jìn)行分解,離線進(jìn)行薄膜厚度無關(guān)的矩陣相乘運(yùn)算;在線進(jìn)行薄膜厚度相關(guān)的矩陣運(yùn)算,得到仿真光譜;通過庫(kù)匹配或非線性回歸調(diào)整待測(cè)參數(shù)取值,直至仿真光譜與測(cè)量光譜匹配,得到待測(cè)薄膜厚度取值。通過該方案可以減少正向建模過程中的運(yùn)算量,提高正向建模效率,進(jìn)而提高薄膜厚度提取效率。 |
