一種薄膜的測(cè)量方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202010276441.X 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN111426275B 公開（公告）日 2021-12-28
申請(qǐng)公布號(hào) CN111426275B 申請(qǐng)公布日 2021-12-28
分類號(hào) G01B11/06（2006.01）I 分類 測(cè)量；測(cè)試;
發(fā)明人 張傳維;王鑫輝;李偉奇;郭春付;楊康 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 武漢頤光科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 武漢藍(lán)寶石專利代理事務(wù)所（特殊普通合伙） 代理人 謝洋
地址 430000湖北省武漢市東湖新技術(shù)開發(fā)區(qū)湯遜湖北路33號(hào)華工科技園·創(chuàng)新基地辦公研發(fā)樓18棟4層5、6、7室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及光學(xué)測(cè)量技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種薄膜的測(cè)量方法，通過(guò)將黑樣件放在樣品臺(tái)上，測(cè)量反射率譜為0的黑樣件反射光強(qiáng)譜；將厚度已知的測(cè)量樣件放在樣品臺(tái)上進(jìn)行測(cè)量，利用光譜儀獲取標(biāo)準(zhǔn)樣件的反射光強(qiáng)譜；測(cè)量標(biāo)準(zhǔn)樣件時(shí)對(duì)應(yīng)的黑樣光強(qiáng)；找到局部測(cè)量區(qū)域后關(guān)閉照明光源，利用光譜儀獲取待測(cè)樣件的反射光強(qiáng)譜；計(jì)算待測(cè)樣件的實(shí)際測(cè)量反射率譜；假定待測(cè)樣件的膜厚序列，通過(guò)計(jì)算獲取相對(duì)應(yīng)的反射率譜序列；通過(guò)表達(dá)擬合程度，擬合程度最佳時(shí)所對(duì)應(yīng)的厚度d為待測(cè)樣件膜厚。本發(fā)明提供的薄膜的測(cè)量方法，可實(shí)現(xiàn)對(duì)樣品的局部區(qū)域精確測(cè)量。