一種釹鐵硼磁體及釹鐵硼磁體表面鍍層的方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201711236461.9 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN107937879A | 公開(公告)日 | 2018-04-20 |
申請公布號 | CN107937879A | 申請公布日 | 2018-04-20 |
分類號 | C23C14/35;C23C14/32;C23C14/16;C23C14/08;C22C38/12;C22C38/32;C22C38/06;C22C38/16;C22C38/10;C22C38/14 | 分類 | 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 毛華云;梁禮渭 | 申請(專利權(quán))人 | 金力永磁(寧波)科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 江西金力永磁科技股份有限公司;金力永磁(寧波)科技有限公司 |
地址 | 341000 江西省贛州市經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)金嶺西路81號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供了一種表面鍍有防腐層的釹鐵硼磁體,包括釹鐵硼磁體,復(fù)合在釹鐵硼磁體表面的多弧離子鍍層,以及復(fù)合在多弧離子鍍層表面的磁控濺射鍍層。本發(fā)明還提供了一種釹鐵硼磁體表面鍍層的方法。本發(fā)明在磁體表面先僅采用了多弧離子鍍,對磁體表面進(jìn)行打底整平,再采用磁控濺射進(jìn)行二次鍍膜的方式,將多弧鍍膜效率高,膜結(jié)合好和磁控濺射膜的致密性有效結(jié)合起來,既提高了鍍層的致密性,又提高了膜的防腐性能,得到了表面鍍有防腐層的釹鐵硼磁體。本發(fā)明提供的釹鐵硼磁體表面鍍層的方法工藝簡單,適合規(guī)模化工業(yè)生產(chǎn)。 |
