一種晶片吸附結(jié)構(gòu)及傳片裝置
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202021422537.4 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN212750844U | 公開(kāi)(公告)日 | 2021-03-19 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN212750844U | 申請(qǐng)公布日 | 2021-03-19 |
分類(lèi)號(hào) | H01L21/683(2006.01)I;H01L21/677(2006.01)I | 分類(lèi) | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 李華;王曉軍 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 上海探躍半導(dǎo)體設(shè)備有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京品源專利代理有限公司 | 代理人 | 孟金喆 |
地址 | 200000上海市浦東新區(qū)宣橋鎮(zhèn)宣秋路210號(hào)E幢1樓北側(cè)101室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實(shí)用新型實(shí)施例公開(kāi)了一種晶片吸附結(jié)構(gòu)及傳片裝置。該晶片吸附結(jié)構(gòu)包括:吸盤(pán)支架;固定于吸盤(pán)支架一端的吸盤(pán),吸盤(pán)和吸盤(pán)支架設(shè)置有一個(gè)真空吸孔;吸盤(pán)用于承載晶片,并利用吸盤(pán)與晶片之間的摩擦力和真空吸孔吸真空時(shí)吸附晶片。本實(shí)用新型實(shí)施例的技術(shù)方案,可以用于吸附帶有窗孔的晶片,避免傳統(tǒng)吸盤(pán)吸附晶片由于窗孔漏氣而導(dǎo)致無(wú)法正常生產(chǎn)的問(wèn)題。?? |
