一種低脫附難度的仿孢子式印染廢氣處理設(shè)備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202010554511.3 申請日 -
公開（公告）號 CN111841164B 公開（公告）日 2022-02-08
申請公布號 CN111841164B 申請公布日 2022-02-08
分類號 B01D46/00（2006.01）I;B01D46/02（2006.01）I;B01D46/06（2006.01）I 分類 一般的物理或化學(xué)的方法或裝置;
發(fā)明人 張國華 申請（專利權(quán)）人 浙江怡豐印染有限公司
代理機構(gòu) - 代理人 -
地址 312030 浙江省紹興市柯橋區(qū)濱海工業(yè)區(qū)越北路2幢
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種低脫附難度的仿孢子式印染廢氣處理設(shè)備，屬于印染廢氣處理領(lǐng)域，一種低脫附難度的仿孢子式印染廢氣處理設(shè)備，通過自分離濾板的設(shè)置，隨著時間延長，其通透性變差，在印染廢氣的沖擊力作用下，徑向骨架能夠相互分離展開，使外凸囊對印染廢氣進行處理吸附，從而有效避免堵塞的自分離濾板對廢氣處理效率的影響，相較于現(xiàn)有技術(shù)，顯著提高對于印染廢氣的處理效率，同時通過支線分離繩以及反向離繩對外凸囊的相互反向的拉扯力，配合交叉離點的作用，雙層外凸囊受力分離，可以松動外凸囊上攔截的毛絮以及短纖維等雜質(zhì)，顯著降低其脫附難度，便于下次使用，有效降低對材料的浪費，降低整體的處理成品投入。