磁控靶布?xì)饨Y(jié)構(gòu)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201020656917.4 申請日 -
公開（公告）號(hào) CN201942743U 公開（公告）日 2011-08-24
申請公布號(hào) CN201942743U 申請公布日 2011-08-24
分類號(hào) C23C14/35(2006.01)I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 王福同;郭東民;徐剛;馮彬;安赟;佟輝;張以忱;劉定文;佟雷;楊穎 申請（專利權(quán)）人 中科能（青島）節(jié)能工程有限公司
代理機(jī)構(gòu) 沈陽科苑專利商標(biāo)代理有限公司 代理人 中國科學(xué)院沈陽科學(xué)儀器研制中心有限公司;中科能（青島）節(jié)能工程有限公司;南車四方車輛有限公司
地址 110168 遼寧省沈陽市渾南新區(qū)新源街一號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型屬于磁控濺射領(lǐng)域，具體地說是一種磁控靶布?xì)饨Y(jié)構(gòu)，包括靶座、極靴、靶材、磁鋼及屏蔽罩，其中靶座位于樣品的下方，在靶座內(nèi)設(shè)有極靴，靶座的頂部安裝有靶材，靶座及靶材外設(shè)有屏蔽罩；所述磁鋼安裝在極靴上，磁鋼的上端面沿軸向截面為斜角；在屏蔽罩與靶座之間設(shè)有濺射氣體通道，濺射氣體通過該濺射氣體通道被引導(dǎo)至靶材的上表面；在屏蔽罩的外部設(shè)有反應(yīng)氣體的進(jìn)氣管，反應(yīng)氣體通過該進(jìn)氣管被引導(dǎo)至樣品的下表面。本實(shí)用新型提高了靶材和工作氣體的利用率，提高了鍍膜的均勻性，降低了成本，提高收益。