鐳射膜存放時(shí)間的檢測(cè)方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201810019649.6 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN108254411B | 公開（公告）日 | 2021-03-26 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN108254411B | 申請(qǐng)公布日 | 2021-03-26 |
| 分類號(hào) | G01N27/00(2006.01)I | 分類 | 測(cè)量；測(cè)試; |
| 發(fā)明人 | 余贊;田璐;鐘文;張勇軍;韋雪雪;羅臻;陳華;章杰 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 常德金德新材料科技股份有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人 | 黃曉慶 |
| 地址 | 415000湖南省常德市經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)德山街道辦事處青山社區(qū)德山大道325號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N鐳射膜存放時(shí)間的檢測(cè)方法，包括以下步驟：提供待測(cè)的鐳射膜；測(cè)定鐳射膜的實(shí)時(shí)電暈值；根據(jù)實(shí)時(shí)電暈值，得到鐳射膜的存放時(shí)間；該鐳射膜的實(shí)時(shí)電暈值與存放時(shí)間的關(guān)系式如下：σ＝?0.0125t2?0.2516t+σ0，其中，σ為實(shí)時(shí)電暈值，t為存放時(shí)間，σ0為初始電暈值。上述鐳射膜存放時(shí)間的檢測(cè)方法，通過測(cè)定的鐳射膜的實(shí)時(shí)電暈值，就可得到準(zhǔn)確的鐳射膜的存放時(shí)間，方便人們判斷該鐳射膜是否還適用于后加工。?? |
