外延硅片預(yù)處理系統(tǒng)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202020747754.4 申請日 -
公開（公告）號 CN211605111U 公開（公告）日 2020-09-29
申請公布號 CN211605111U 申請公布日 2020-09-29
分類號 H01L21/67(2006.01)I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 康宏;王作義;卞小玉;石廣寧;何傳奇 申請（專利權(quán)）人 四川廣瑞半導(dǎo)體有限公司
代理機(jī)構(gòu) 成都行之專利代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 唐邦英
地址 629000四川省遂寧市國開區(qū)玉龍路598號創(chuàng)新創(chuàng)業(yè)孵化中心4011號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了外延硅片預(yù)處理系統(tǒng)，包括空氣壓縮機(jī)、臭氧發(fā)生機(jī)、鼓泡瓶、流量計和噴射裝置；所述空氣壓縮機(jī)、臭氧發(fā)生機(jī)、鼓泡瓶通過第一進(jìn)氣管順次連接，所述第一進(jìn)氣管的出口端插入鼓泡瓶內(nèi)水面以下；所述鼓泡瓶和噴射裝置通過排氣管連接，所述排氣管上設(shè)置有流量計，所述排氣管的入口端在鼓泡瓶內(nèi)水面以上；所述噴射裝置用于將臭氧噴射在外延硅片的表面，所述鼓泡瓶內(nèi)的水保持恒溫。本實用新型解決了采用雙氧水浸泡方式導(dǎo)致操作難度大、工作量大問題。??