一種化學(xué)鍍銅液
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201811025133.9 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN108866521A | 公開(公告)日 | 2021-07-16 |
申請公布號 | CN108866521A | 申請公布日 | 2021-07-16 |
分類號 | C23C18/40;H05K3/42 | 分類 | 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 李曉紅;宋通;章曉冬;劉江波;童茂軍 | 申請(專利權(quán))人 | 廣東天承科技股份有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京品源專利代理有限公司 | 代理人 | 鞏克棟 |
地址 | 510990 廣東省廣州市從化經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)太源路8號(廠房)首層 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供了一種化學(xué)鍍銅液。所述化學(xué)鍍銅液包括如下重量份數(shù)的組分:二價(jià)銅鹽1?10份、二價(jià)鎳鹽0.1?10份、還原劑2?50份、絡(luò)合劑20?100份、穩(wěn)定劑0.0001?0.02份和pH調(diào)節(jié)劑;所述穩(wěn)定劑包括硫脲、聯(lián)吡啶和2?巰基苯并噻唑中的至少兩種,且不包括氰化物。本發(fā)明提供的化學(xué)鍍銅液形成的銅沉積層致密平整,空穴較??;能夠有效降低電鍍后電鍍層的表面粗糙度,提高光亮度。 |
