一種穩(wěn)定均勻的氣流出氣裝置
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201921122024.9 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN210332160U | 公開(kāi)（公告）日 | 2020-04-17 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN210332160U | 申請(qǐng)公布日 | 2020-04-17 |
| 分類號(hào) | B01D53/02 | 分類 | 一般的物理或化學(xué)的方法或裝置; |
| 發(fā)明人 | 戚勵(lì);趙靜 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 北京市飛達(dá)捷能氣體分離技術(shù)有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 成都其高專利代理事務(wù)所（特殊普通合伙） | 代理人 | 北京市飛達(dá)捷能氣體分離技術(shù)有限公司 |
| 地址 | 101102 北京市通州區(qū)中關(guān)村科技園區(qū)金橋科技產(chǎn)業(yè)基地景盛南四街13號(hào)2A | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型公開(kāi)了一種穩(wěn)定均勻的氣流出氣裝置，包括吸附塔本體和一級(jí)均流組件，所述一級(jí)均流組件設(shè)置于該吸附塔本體底部，且所述一級(jí)均流組件上設(shè)置有多個(gè)二級(jí)均流組件，多個(gè)所述二級(jí)均流組件以發(fā)散狀分布于所述一級(jí)均流組件外側(cè)，且所述一級(jí)均流組件底部設(shè)置有進(jìn)氣管，所述吸附塔本體外側(cè)對(duì)應(yīng)二級(jí)均流組件設(shè)置有多組通孔。有益效果在于：本實(shí)用新型通過(guò)對(duì)進(jìn)氣管排出的氣體進(jìn)行兩次擴(kuò)散分流，增加進(jìn)氣管內(nèi)氣體導(dǎo)入吸附塔本體過(guò)程中的氣體通道數(shù)量，以提高進(jìn)氣管排出氣體的均勻穩(wěn)定性，同時(shí)確保氣體與吸附塔本體內(nèi)吸附介質(zhì)均勻接觸，提高凈化效果。 |
