一種晶圓旋轉(zhuǎn)支撐結(jié)構(gòu)和半導(dǎo)體外延設(shè)備
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202121209586.4 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN215815830U | 公開(公告)日 | 2022-02-11 |
申請公布號 | CN215815830U | 申請公布日 | 2022-02-11 |
分類號 | H01L21/687(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 劉自強(qiáng);燕春;楊進(jìn) | 申請(專利權(quán))人 | 江蘇天芯微半導(dǎo)體設(shè)備有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 上海元好知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 張妍;曹媛 |
地址 | 214028江蘇省無錫市新吳區(qū)行創(chuàng)四路7號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實(shí)用新型涉及一種晶圓旋轉(zhuǎn)支撐結(jié)構(gòu)以及半導(dǎo)體外延設(shè)備,該晶圓旋轉(zhuǎn)支撐結(jié)構(gòu)包括旋轉(zhuǎn)軸,與旋轉(zhuǎn)軸固定連接的多個主支撐臂,該些主支撐臂沿著旋轉(zhuǎn)軸的周向均勻分布,每個主支撐臂的一端與旋轉(zhuǎn)軸固定連接,另一端向外延伸且固定連接一主支撐柱;該些主支撐柱的頂部共同支撐在基盤的底部,該基盤的頂部用于放置晶圓;每相鄰兩個主支撐柱之間還間隔設(shè)置有若干個低于主支撐柱的輔助支撐柱。所述半導(dǎo)體外延設(shè)備包含真空腔體以及位于該真空腔體內(nèi)的所述晶圓旋轉(zhuǎn)支撐結(jié)構(gòu)、基盤、位于晶圓旋轉(zhuǎn)支撐結(jié)構(gòu)下方的頂升裝置,該頂升裝置用于將基盤頂部的晶圓抬高。本實(shí)用新型能夠有效的減小基盤的震動幅度,提高設(shè)備穩(wěn)定性以及外延成膜的均勻性。 |
