一種用于外延設(shè)備的氣體管路及外延設(shè)備

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202122971524.3 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)(公告)號(hào) CN216972741U 公開(kāi)(公告)日 2022-07-15
申請(qǐng)公布號(hào) CN216972741U 申請(qǐng)公布日 2022-07-15
分類(lèi)號(hào) C30B25/14(2006.01)I;C30B25/08(2006.01)I 分類(lèi) 晶體生長(zhǎng)〔3〕;
發(fā)明人 尹寧;燕春;楊進(jìn) 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人 江蘇天芯微半導(dǎo)體設(shè)備有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海元好知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 -
地址 214028江蘇省無(wú)錫市新吳區(qū)行創(chuàng)四路7號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型涉及用于外延設(shè)備的氣體管路及外延設(shè)備,所述用于外延設(shè)備的氣體管路包括:上游管路、下游管路、可拆卸緊固裝置、限流器和防沉積環(huán),所述防沉積環(huán)設(shè)置在限流器與上游管路的接頭之間和/或限流器與下游管路的接頭之間,所述防沉積環(huán)包括面對(duì)限流器的第一表面和與之相對(duì)的第二表面,所述第二表面具有從所述接頭的內(nèi)壁向限流器延申的坡面。所述坡面可以很好地防止工藝氣體在氣體管路的直角角落沉積,從而抑制了沉積物形成顆粒物進(jìn)入反應(yīng)腔,避免了工藝的失敗。