一種高純?nèi)谆X制備裝置及其使用方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202111325211.9 申請日 -
公開（公告）號 CN114011353A 公開（公告）日 2022-02-08
申請公布號 CN114011353A 申請公布日 2022-02-08
分類號 B01J19/00（2006.01）I;B01D53/86（2006.01）I;B01D53/74（2006.01）I;B01D3/14（2006.01）I;B01D3/00（2006.01）I;F23G7/06（2006.01）I;C07F5/06（2006.01）I 分類 一般的物理或化學的方法或裝置;
發(fā)明人 郭之軍;蔣飚;趙和英;黃學芳;宋鴻睿;張光祥;劉幫偉;蔡金剛 申請（專利權）人 貴州威頓晶磷電子材料股份有限公司
代理機構(gòu) 貴陽春秋知識產(chǎn)權代理事務所（普通合伙） 代理人 李萬強
地址 550000貴州省貴陽市白云區(qū)新材料產(chǎn)業(yè)園區(qū)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種高純?nèi)谆X制備裝置及其使用方法，高純?nèi)谆X制備裝置由四個系統(tǒng)組成，分別是鈉還原提純系統(tǒng)、物理層析過濾裝置、精餾提純系統(tǒng)和光催化尾氣吸收槽；其中鈉還原提純系統(tǒng)由提純釜和油浴槽組成；精餾提純系統(tǒng)由終餾釜和初餾釜組成；物理層析過濾裝置具體為粒徑1μm?2μm活性炭構(gòu)成上層、粒徑0.5μm?0.8μm的奧氏體不銹鋼微粒構(gòu)成中層、粒徑0.1μm?0.2μm的氧化鋁粉末構(gòu)成底層的三層層析裝置；光催化尾氣吸收槽內(nèi)的處理液為二氧化氫與二氧化鈦按質(zhì)量比200：1?2的質(zhì)量比混合并維持攪拌均勻的混濁液。該高純?nèi)谆X制備裝置制備產(chǎn)品純度高、穩(wěn)定性好、工藝易控可控、尾氣處理干凈完全。