用于感應離子耦合劑刻蝕機承載被刻蝕外延片的基臺

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202011296054.9 申請日 -
公開（公告）號 CN112397439A 公開（公告）日 2021-02-23
申請公布號 CN112397439A 申請公布日 2021-02-23
分類號 H01L21/687(2006.01)I;H01J37/32(2006.01)I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 韓曉翠;劉峰;康建;陳向東 申請（專利權）人 馬鞍山杰生半導體有限公司
代理機構 北京華智則銘知識產(chǎn)權代理有限公司 代理人 沈抗勇
地址 243000安徽省馬鞍山市經(jīng)濟技術開發(fā)區(qū)寶慶路399號1棟
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及基臺技術領域，且公開了一種用于感應離子耦合劑刻蝕機承載被刻蝕外延片的基臺，包括底座，所述底座的頂部設置有基臺主體，基臺主體上開設有兩個固定孔，兩個固定孔內(nèi)滑動連接有第一擋板和第二擋板，第一擋板和第二擋板的底端均延伸至基臺主體的下方并與底座的頂部固定連接，第一擋板和第二擋板的頂端均延伸至基臺主體的上方并固定連接有固定塊，第一擋板和第二擋板相互靠近的一側均開設有第一滑槽，兩個固定孔相互靠近的一側內(nèi)壁上均固定連接有第一滑塊。本發(fā)明能夠快速方便的對基臺主體的高度調(diào)節(jié)和定位，操作簡單，方便，方便了加工生產(chǎn)，省時省力，提高了工作效率，滿足了使用者的需要。??