超高壓水霧試驗系統(tǒng)
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201010577747.5 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN102121893B | 公開(公告)日 | 2012-07-04 |
申請公布號 | CN102121893B | 申請公布日 | 2012-07-04 |
分類號 | G01N15/02(2006.01)I;G01N15/00(2006.01)I | 分類 | 測量;測試; |
發(fā)明人 | 王玄玉;殷耀敏;趙遠;章頌齡 | 申請(專利權)人 | 杭州太空高壓射流科技股份有限公司 |
代理機構 | 北京慧泉知識產權代理有限公司 | 代理人 | 中國人民解放軍防化指揮工程學院;杭州太空高壓射流科技股份有限公司;南京太空高壓清洗設備有限公司 |
地址 | 102205 北京市昌平區(qū)陽坊鎮(zhèn) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及一種超高壓水霧試驗系統(tǒng),該系統(tǒng)包括水霧箱、數據采集分析控制子系統(tǒng)、可見光輻射度探測單元、紅外光譜衰減探測單元、紅外熱成像探測單元、1.06微米近紅外激光衰減探測單元、10.6微米遠紅外激光衰減探測單元、空氣加熱裝置、空氣冷卻裝置、加濕裝置、除濕裝置、軸流風機、超高壓超高轉速旋轉噴頭、溫度傳感器、壓力傳感器、濕度傳感器、風速傳感器、水霧濃度傳感器、粒徑分布儀。該裝置可根據測試的要求,在水霧試驗箱中模擬大氣壓力、溫度、濕度、風力等大氣環(huán)境指標,針對超高壓水射流水霧隱形發(fā)生器所產生的超高壓水霧進行可見光、激光、熱成像、紅外輻射等偵察方式的遮蔽干擾性能指標測試,并進行分析和評價。 |
