一種光掩模濕法工藝卡盤

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202010729016.1 申請日 -
公開(公告)號 CN111863701B 公開(公告)日 2021-03-16
申請公布號 CN111863701B 申請公布日 2021-03-16
分類號 H01L21/687(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 徐飛;鄔治國;沈健;華衛(wèi)群;尤春;劉維維 申請(專利權)人 常州瑞擇微電子科技有限公司
代理機構 北京高沃律師事務所 代理人 代芳
地址 213000江蘇省常州市長江中路2號樓5樓西
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開一種光掩模濕法工藝卡盤,涉及微電子制造領域,包括卡盤本體,所述卡盤本體底部固定連接有卡盤連接件,所述卡盤連接件與旋轉電機的旋轉軸固定連接;所述旋轉電機上安裝有馬達蓋本體,所述馬達蓋本體套設于所述卡盤連接件上,所述馬達蓋本體與所述卡盤本體之間設置有卡盤防水罩,所述卡盤防水罩套設于所述卡盤連接件上,且所述卡盤防水罩頂部與所述卡盤本體底部固定連接。本發(fā)明通過設計優(yōu)化卡盤底座和馬達蓋的密封結構,達到防水和防止虹吸效應,避免液體進入馬達蓋,有效防止旋轉電機進水和腐蝕。??