一種光掩模邊緣和側(cè)面光刻膠的去除裝置及方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202010741764.1 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN111796485A | 公開(kāi)（公告）日 | 2020-10-20 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN111796485A | 申請(qǐng)公布日 | 2020-10-20 |
| 分類號(hào) | G03F7/16(2006.01)I | 分類 | 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕; |
| 發(fā)明人 | 徐飛;鄔治國(guó);沈健 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 常州瑞擇微電子科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京高沃律師事務(wù)所 | 代理人 | 代芳 |
| 地址 | 213000江蘇省常州市新北區(qū)長(zhǎng)江中路25號(hào)2號(hào)樓5樓西 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開(kāi)一種光掩模邊緣和側(cè)面光刻膠的去除裝置及方法，涉及光掩模技術(shù)領(lǐng)域，包括依次設(shè)置于光掩模邊緣的第一噴頭和第二噴頭，第一噴頭和第二噴頭沿光掩模邊緣線性移動(dòng)；第一噴頭上設(shè)置有第一去膠溶劑噴嘴和第一真空吸入口，第一去膠溶劑噴嘴垂直設(shè)置于光掩模的側(cè)面上部，第一真空吸入口垂直設(shè)置于光掩模的背面邊緣；第二去膠溶劑噴嘴垂直設(shè)置于光掩模的正面邊緣，第二真空吸入口垂直設(shè)置于光掩模的側(cè)面；第一去膠溶劑噴嘴和第二去膠溶劑噴嘴均通過(guò)進(jìn)液管連接有供液組件，第一真空吸入口和第二真空吸入口均通過(guò)真空管連接有真空系統(tǒng)。本發(fā)明同時(shí)清洗光掩模側(cè)面殘留光刻膠和邊緣光刻膠，且在清洗過(guò)程中不會(huì)影響到其他區(qū)域的光刻膠。?? |
