一種納米硅磷漿及其制備方法和應(yīng)用
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201310397907.1 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN103489932B | 公開(公告)日 | 2016-03-30 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN103489932B | 申請(qǐng)公布日 | 2016-03-30 |
分類號(hào) | H01L31/0224(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 劉國(guó)鈞;萬劍;沈曉東;蔣紅彬;成漢文;沈曉燕;楊曉旭 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 蘇州金瑞晨科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京同恒源知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 劉憲池 |
地址 | 215000 江蘇省蘇州市吳中區(qū)吳中經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)澄湖東路5號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種納米硅磷漿的組成及其制備方法,還公開了使用該納米硅磷漿生產(chǎn)正面接觸p型太陽能電池的應(yīng)用方法以及生產(chǎn)出的太陽能電池的結(jié)構(gòu);所述納米硅磷漿用絲網(wǎng)印刷方法印在涂有氮化硅減反射膜的太陽能電池硅片上面,在燒結(jié)正面銀漿金屬電極時(shí),納米硅磷漿穿透氮化硅(SiNx)減反射膜,使納米硅直接與硅片基板接觸;納米硅磷漿釋放磷原子擴(kuò)散到硅片中對(duì)漿體覆蓋區(qū)域進(jìn)行摻雜,增加覆蓋區(qū)發(fā)射極厚度,進(jìn)一步防止p/n結(jié)被燒穿;燒結(jié)完成后,納米硅與銀共晶析出,銀柵線與硅基板形成良好的歐姆接觸,增強(qiáng)銀柵線的附著力;所述方法簡(jiǎn)化太陽能電池生產(chǎn)步驟。 |
