一種可應(yīng)用于密集分布環(huán)境下的RFID標(biāo)簽
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202020383757.4 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN211956532U | 公開（公告）日 | 2020-11-17 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN211956532U | 申請(qǐng)公布日 | 2020-11-17 |
| 分類號(hào) | G06K19/077(2006.01)I;H01Q1/22(2006.01)I | 分類 | 計(jì)算；推算；計(jì)數(shù); |
| 發(fā)明人 | 華昌洲;靳翔宇;鄧元明;伯林;林超;陸振君 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 上揚(yáng)無線射頻科技揚(yáng)州有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 寧波奧圣專利代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 上揚(yáng)無線射頻科技揚(yáng)州有限公司 |
| 地址 | 225000江蘇省揚(yáng)州市廣陵經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)創(chuàng)業(yè)路20號(hào)(科技創(chuàng)業(yè)園A3棟) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型公開了一種可應(yīng)用于密集分布環(huán)境下的RFID標(biāo)簽，包括介質(zhì)基板、射頻芯片第一輻射單元、第二輻射單元、第一阻抗匹配單元和第二阻抗匹配單元，第一輻射單元和第二輻射單元為左右對(duì)稱結(jié)構(gòu)，第一阻抗匹配單元和第二阻抗匹配單元為左右對(duì)稱結(jié)構(gòu)，第一輻射單元包括第一金屬微帶線、第二金屬微帶線、第三金屬微帶線、第四金屬微帶線、第五金屬微帶線、第六金屬微帶線和第七金屬微帶線，第一阻抗匹配單元包括第八金屬微帶線、第九金屬微帶線和第十金屬微帶線；優(yōu)點(diǎn)是可應(yīng)用于密集分布環(huán)境下的RFID標(biāo)簽，在應(yīng)用于密集分布環(huán)境下時(shí)仍具有較高的輻射效率。?? |
