商標(biāo)進(jìn)度

商標(biāo)申請(qǐng)

初審公告

已注冊(cè)

4

終止

商標(biāo)詳情

商標(biāo)
商標(biāo)名稱 華力 商標(biāo)狀態(tài) 商標(biāo)已注冊(cè)
申請(qǐng)日期 2010-11-08 申請(qǐng)/注冊(cè)號(hào) 8817986
國際分類 09類-科學(xué)儀器 是否共有商標(biāo)
申請(qǐng)人名稱(中文) 上海華力微電子有限公司 申請(qǐng)人名稱(英文) -
申請(qǐng)人地址(中文) 中國(上海)自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)高斯路568號(hào) 申請(qǐng)人地址(英文) -
商標(biāo)類型 商標(biāo)續(xù)展---核準(zhǔn)通知打印發(fā)送 商標(biāo)形式 -
初審公告期號(hào) 1296 初審公告日期 2012-01-20
注冊(cè)公告期號(hào) 8817986 注冊(cè)公告日期 2012-04-21
優(yōu)先權(quán)日期 - 代理/辦理機(jī)構(gòu) 上海思微知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)
國際注冊(cè)日 - 后期指定日期 -
專用權(quán)期限 2022-04-21-2032-04-20
商標(biāo)公告 -
商品/服務(wù)
光學(xué)品(0911)
集成電路硅片(0913)
晶片(鍺片)(0913)
晶片(硅片)(0913)
用于對(duì)集成電路設(shè)計(jì)元件及其生產(chǎn)技術(shù)之資料庫存取用資料之半導(dǎo)體晶片(0913)
用于半導(dǎo)體晶圓處理設(shè)備之元件資料庫進(jìn)行資料存取用之半導(dǎo)體晶片(0913)
光學(xué)品()
集成電路硅片()
晶片(鍺片)()
晶片(硅片)()
用于對(duì)集成電路設(shè)計(jì)元件及其生產(chǎn)技術(shù)之資料庫存取用資料之半導(dǎo)體晶片()
用于半導(dǎo)體晶圓處理設(shè)備之元件資料庫進(jìn)行資料存取用之半導(dǎo)體晶片()
商標(biāo)流程
2010-11-08

商標(biāo)注冊(cè)申請(qǐng)---申請(qǐng)收文

2010-11-30

商標(biāo)注冊(cè)申請(qǐng)---打印受理通知

2011-04-01

商標(biāo)注冊(cè)申請(qǐng)---補(bǔ)正收文

2011-04-01

商標(biāo)注冊(cè)申請(qǐng)---等待補(bǔ)正回文

2011-10-13

商標(biāo)注冊(cè)申請(qǐng)---打印駁回通知

2012-05-11

商標(biāo)注冊(cè)申請(qǐng)---打印注冊(cè)證

2021-07-13

變更商標(biāo)申請(qǐng)人/注冊(cè)人名義/地址---申請(qǐng)收文

2021-08-07

變更商標(biāo)申請(qǐng)人/注冊(cè)人名義/地址---核準(zhǔn)證明打印發(fā)送

2021-08-13

商標(biāo)續(xù)展---申請(qǐng)收文

2021-09-11

商標(biāo)續(xù)展---核準(zhǔn)通知打印發(fā)送