上置式極坐標調節(jié)裝置
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201410528902.2 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN104299883B | 公開(公告)日 | 2017-08-22 |
申請公布號 | CN104299883B | 申請公布日 | 2017-08-22 |
分類號 | H01J49/04(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 董曉峰;陳煥文;王姜;顧海巍 | 申請(專利權)人 | 江西正譜奕和科技有限公司 |
代理機構 | 北京尚誠知識產權代理有限公司 | 代理人 | 東華理工大學;江西正譜奕和科技有限公司 |
地址 | 344000 江西省撫州市學府路56號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開一種用于表面解吸常壓化學電離源的調節(jié)裝置,包括安裝接口、Y向平移調節(jié)模塊、Z向平移調節(jié)模塊、A軸角度調節(jié)模塊、離子源噴頭、綜合接口、進樣Z向自動調節(jié)模塊、進樣X向自動進給模塊與進樣Y向手動調節(jié)模塊。該裝置可精確定量調節(jié)離子源噴頭與質譜儀進樣口的角度α、離子源噴頭與質譜儀進樣口的Z向距離a1、離子源噴頭與質譜儀進樣口的Y向距離b1、樣品臺與質譜儀進樣口的Z向距離a2、樣品臺與質譜儀進樣口的Y向距離b2。該裝置適用于研究與優(yōu)化配置離子源噴頭、樣品臺與質譜儀進樣口之間的空間位置參數與信號強度的關系,特別適用于快速批量檢測固體樣品以及對連續(xù)分布的樣品進行質譜成像。 |
