驅(qū)動基板及制作方法、顯示面板
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202110052271.1 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN112599478A | 公開(公告)日 | 2021-04-02 |
申請公布號 | CN112599478A | 申請公布日 | 2021-04-02 |
分類號 | H01L27/12(2006.01)I;H01L33/58(2010.01)I;G09F9/33(2006.01)I;H01L21/84(2006.01)I;H01L25/13(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 顧楊 | 申請(專利權(quán))人 | 蘇州芯聚半導體有限公司 |
代理機構(gòu) | 蘇州威世朋知識產(chǎn)權(quán)代理事務所(普通合伙) | 代理人 | 常偉 |
地址 | 215000江蘇省蘇州市工業(yè)園區(qū)通園路666號B幢2樓2007 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供一種驅(qū)動基板及制作方法、顯示面板,制作方法包括:提供襯底;形成遮光層于所述襯底一側(cè)的表面上;提供掩膜版,所述掩膜版層疊于所述遮光層上方,所述掩膜版包括若干鏤空區(qū);干法蝕刻所述遮光層形成若干斜向開槽和若干第一遮光單元,每一斜向開槽與每一鏤空區(qū)對應,每一第一遮光單元具有靠近所述襯底的第一側(cè)邊的傾斜側(cè)壁;移動掩膜版,以使每一第一遮光單元靠近所述襯底的第一側(cè)邊的傾斜側(cè)壁自對應的鏤空區(qū)中露出;以及干法蝕刻所述傾斜側(cè)壁,形成第二遮光單元;其中,所述第二遮光單元的剖面形狀為正梯形結(jié)構(gòu)。?? |
